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中国光刻机
在光刻机领域，荷兰ASML和日本的佳能，尼康把握了全球9成以上的光刻机市场。似乎没有第四家光刻机厂商，能够参与中高端光刻机的竞争。因为不具备生产中高端光刻机的实力。
其中ASML更是唯一能生产EUV光刻机的厂商，就因为能生产EUV光刻机，所以ASML受到全球芯片制造厂商的追捧，都希望能采购一台EUV光刻机。尽管需要花费1.2亿美元才能购买一台EUV光刻机，但依旧是供不应求。
我国芯片代工厂曾经也买了一台EUV光刻机，只不过在某些国家的阻碍下，迟迟没有交付。
实际上中国光刻机也有自己的生产厂商，比如上海微电子就是国内实力领先的光刻机设备厂商。掌握28nm光刻机制造工艺，还有华卓精科提供光刻机双工件台，助力国产光刻机发展。
可能很多人不知道的是，65年前中国就有光刻机。在60年代，中国第一台65型接触式光刻机亮相，可能技术放在现在来看，不是最领先的。但能够在当时生产出光刻机，已经是走在世界各国前沿了。
到了80年代，中国研发的光刻机技术甚至领先世界。如果按照这种趋势，我们应该还是世界领先的，可为何如今不行了？
为何不行了？
光刻机制程也是分为很多种的，从低到高包括了180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等工艺。根据光刻机种类的不同，应用领域也是不一样的。
比如ASML生产的EUV光刻机可专门用来生产5nm手机芯片处理器，佳能的高功能光刻机是面向小型基板生产的。能够做到28nm及以下的，全世界都没有几家。到了7nm以下，就只有ASML能生产。
实际上我国主流的光刻机水准是在90nm，上海微电子传来的28nm浸润式光刻机，还在发货阶段，距离投入实际生产使用，还没有太大的进展。
至少可以确定的是，和国外的ASML相比，我们还有很大的进步空间。那么问题在于，为什么80年代是领先的，到后来却不行了？
原因在于研发投入大，人才储备不足，没有好的生产制造环境。再加上当时国外技术大量引起国内，所以为了方便，直接购买国外设备成为主要思想。
在当时的时代背景下，有条件研发光刻机的企业机构非常少，人才的稀有的原因都是造成发展迟缓的原因。
国产光刻机的布局
在光刻机领域，任何一项技术的研发都不是一朝一夕就能完成的，就算是ASML，也耗费了几十年才有如今的成就。而且EUV光刻机90%以上的先进零部件都来自于欧美国家，就算图纸公开，外界也造不出来。
所以可见一台先机光刻机的制造难度有多大，可即便如此，国产光刻机依然展开了布局。比如中科院已经宣布要入局光刻机，上海微电子参与光刻机的设计，总体集成。北京科益虹源光电技术有限公司是国内唯一高能准分子激光器制造公司。
另外北京国望光学科技有限公司也能提供光刻机物镜系统，浙江启尔机电技术有限公司负责生产浸没系统等等。
这些都是国产光刻机的布局，还有更多的企业构成了国产光刻机供应链，有这些星星之火，一定可以燎原。
总结
光刻机制造是一项复杂且耗时费力生产工作，尤其是生产高端光刻机，可能不是有钱就能完成的。还需要大量人才的投入，在国产光刻机产业链上，我们有自己的产业支柱。
虽然和国际主流技术相比，还有上升空间。但是这并不是最重要的，最重要的是我们从未放弃，只要不放弃，一切皆有可能，包括国产高端光刻机。
对国产光刻机你有什么看法呢？
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